雪中炭 XT5218B12-R25C 低溫恒溫循環(huán)器

     低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

低溫恒溫循環(huán)器特別適用與化學反應釜、發(fā)酵罐、旋轉蒸發(fā)器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發(fā)皿、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。

低溫恒溫循環(huán)器主要特點

風冷式高效全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。

微機智能控制,溫度精確溫度。

數(shù)顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。

溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。

制冷系統(tǒng)過熱、過流自動保護。

XT5218B系列高低溫恒溫循環(huán)器采用全封閉磁力泵循環(huán)攪拌實現(xiàn)高精度恒溫，溫場均勻，免除泄露和異常噪聲，同時提供外循環(huán)恒溫，最佳溫度波動度達到±0.05℃；自由設定的上電自動啟動模式和待機模式，額外確保循環(huán)裝置的安全操作并免除停電干擾。（詳情點擊：XT5218B系列高低溫恒溫循環(huán)器）

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